真空納米鍍膜過程
2023-09-12 15:51:41
dgwhdm
11920
沉積過程分為三步:
1．真空條件下, 以120℃將固態粉末狀的對二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加熱汽化;
2．以650℃ 將氣態的對二甲苯的二聚物 ,裂解為對二甲苯 (para-xylylene) 的 活性單體(monomer);
3．氣態活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。
氣態單體進入沉積腔室，首先彌漫在工件表面，當吸附到各個表面后開始聚合和結晶，直接形成固體，避免了液相的出現，清除了厚度的不均勻和涂層的缺陷。（應用LED行業、電子行業、醫療器械、印刷電路板、微電子、磁性行業、半導體、橡塑產品、文物保護、特殊領域）工能:絕緣強和耐高溫，抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、透明、防水、抗老化。
